Основной процесс водоподготовки происходит в закрытой ёмкости реактора холодной плазмы*, нижняя половина которой заполнена водой, подаваемой из водопровода (при необходимости через блок фильтров предварительной очистки). Высоковольтный разряд подаётся на матрицу электродов, которая расположена в верхней части реактора, заполненной воздухом. Электроды не контактируют с водой, что исключает попадание в неё продуктов электролитического разложения металла. В пространство вокруг электродов непрерывно нагнетается паровоздушная смесь, где она ионизируется с образованием активных форм кислорода (АФК), среди которых преобладают гидроксильные радикалы (ОН−) — наиболее мощные окислители из всех, известных науке. Они многократно превосходят используемые сегодня в водоподготовке хлорные соединения, ультрафиолетовое излучение и озон. С помощью циркуляции АФК насыщают воду и запускают цепные реакции окисления-восстановления с участием водородных связей.

Это отличие носит принципиальный характер. Благодаря такой конструкции исключено перекрёстное заражение воды микроорганизмами и возникновение биоплёнок, которое характерно для фильтров, особенно после их длительного использования. Технология холодной плазмы также не привносит в воду дополнительных растворённых веществ, которые, как в случае с применением озона и, тем более, соединений хлора, могут быть намного опаснее первоначальных загрязнений.

После реактора вода очищена от растворенных примесей, за исключением минеральных солей, а активные формы кислорода нейтрализуются на выходе с помощью АФК-деструктора.